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          PECVD系統(tǒng)
    PECVD系統(tǒng)
     
    PECVD系統(tǒng) 產(chǎn)品簡介為了降低化學沉積溫度,利用了等離子體的活性來促進反應,這種CVD系統(tǒng)稱之為等離子.....更多>>
          CVD系統(tǒng)
    CVD系統(tǒng)
     
     CVD系統(tǒng)產(chǎn)品簡介 常規(guī)CVD系統(tǒng)由管式爐、流量混合器、真空體統(tǒng)三部分組成。改系統(tǒng)可以滿足絕大部.....更多>>
    旋轉(zhuǎn)管式爐
     
    旋轉(zhuǎn)管式爐 產(chǎn)品簡介旋轉(zhuǎn)管式爐是指爐管通過電機驅(qū)動實現(xiàn)360°正反轉(zhuǎn),讓內(nèi)部的粉狀或顆粒狀樣品能夠充.....更多>>
    1500-1700℃多溫區(qū)管式爐
     
    1500-1700℃多溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置.....更多>>
    1500-1700℃單溫區(qū)管式爐
     
    1500-1700℃單溫區(qū)管式爐 產(chǎn)品簡介高溫管式爐主要用在高于1200℃的氣氛反應燒結中,其中1500型管式爐可.....更多>>
    1200℃三溫區(qū)管式爐
     
    1200℃三溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置為同一.....更多>>
    1200℃雙溫區(qū)管式爐
     
    1200℃雙溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡介多溫區(qū)管式爐主要用在CVD實驗和需要多個溫度梯度的環(huán)境中。將多個溫區(qū)設置為同一.....更多>>
    1200℃單溫區(qū)管式爐
     
    1200℃單溫區(qū)管式爐產(chǎn)品簡介1200℃管式爐是在實驗室熱處理中常用的一款設備,主要用于氣氛保護或者氣氛反應.....更多>>
    1200℃迷你型管式爐
     
    1200℃迷你型管式爐產(chǎn)品簡介這款迷你型管式爐體積小巧,性價比極高,而且可以滿足絕大部分氣氛環(huán)境下的實驗.....更多>>
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